半導體的生(sheng)產需(xu)要經過8個主(zhu)要工(gong)序(xu)。超純(chun)水主要(yao)用於半導體製(zhi)造(zao)中某(mou)些(xie)工序前(qian)後的清洗。例(li)如，在蝕(shi)刻(ke)工藝之後(hou)，切割(ge)晶(jing)圓並(bing)用(yong)超純水清洗(xi)殘餘碎(sui)片。或者，在離子(zi)注(zhu)入過(guo)程(cheng)之(zhi)後，清(qing)潔殘餘(yu)離(li)子。此(ci)外，超純水還(hai)可用於(yu)晶圓(yuan)拋光(guang)或晶圓切割。

　　超純水是一種用於半(ban)導體製造過程中的(de)洗滌劑(ji)。那(na)麽(mo)，在半導體生產(chan)中使用超純水會有(you)什(shen)麽影(ying)響呢?在用納米(mi)超精(jing)細工藝(yi)處理(li)半導體時，如果在各(ge)種工藝前後留下一(yi)個(ge)小(xiao)顆粒，則會導致誤(wu)差(cha)。因此，在各種工藝前後用超純水清洗晶圓可以確保(bao)清潔(jie)度並提高半導體生產率(輸出)。

　　隨(sui)著半導體(ti)工業的不斷發(fa)展，對清潔水(shui)的電導(dao)率、離子含量、TOC、do和顆粒(li)物(wu)的要求越(yue)來越嚴(yan)格。由於超純水在許多(duo)指(zhi)標上對半導體的要求(qiu)很高(gao)，因此半導體行(xing)業(ye)的超(chao)純水與(yu)其他行業的用水要求不同。半導體行業對超純水有極其嚴格的水質要求。目前，我國常用的超純水標(biao)準(zhun)有國家(jia)標準《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標。

　　在半導體生產過程中，硼是一種(zhong)p型雜質。過量會使n型矽反轉，從而影響電子和空穴的濃度(du)。因此，在超純水工業中應充分考(kao)慮硼的去除。硼離美(mei)標中e1.3中要求小於0.05。如果(guo)硼離子含量(liang)能夠(gou)達到(dao)較(jiao)低的指標，則必(bi)然(ran)會提(ti)高半導體的性能(neng)。

　　Huncotte係統選用核級(ji)樹(shu)脂(zhi)，可通過獨特的靶向離子交(jiao)換(huan)樹脂有效(xiao)控製係統出水的硼離子含量。采用IPC-MS檢測硼離子含(han)量，並對硼(peng)離子流(liu)出物進(jin)行分析(xi)≤ 0.005μG/L遠(yuan)低於美標E1.3中(zhong)要求的硼離子含量。

　　今日，富二代短视频app官网地址下载集裝(zhuang)箱(xiang)海水淡化(hua)設備已出廠(chang)驗收。富二代短视频app官网地址下载集(ji)裝箱海(hai)水淡化設備解決了空(kong)間限製，安(an)裝方便、體積(ji)小、操(cao)作(zuo)簡(jian)單。

　　目(mu)前，在水資(zi)源(yuan)緊缺的情(qing)況下，加強(qiang)海水淡化的國(guo)產化技術研發，在水資源再利用方(fang)麵(mian)，推廣(guang)海水淡(dan)化設備顯得尤為(wei)重要，並且現(xian)代海水淡化設備也漸漸步(bu)入了現代這(zhe)個快速(su)發展(zhan)的時(shi)代，其(qi)有效性和可靠(kao)性(xing)也越來(lai)越被人們(men)所(suo)認可(ke)。

　　集裝箱式海水淡化設備的優(you)勢(shi)如何?

　　1、集裝箱式(shi)海水淡化設備采(cai)用反滲透(tou)分離技術進行海水淡化脫鹽，工藝流程和(he)操作參數通過計(ji)算機(ji)進行優化設計。

　　2、海水淡化脫(tuo)鹽(yan)工藝無(wu)需海水加(jia)溫，運行於常(chang)溫下，無相變現象，因(yin)此能耗低，製水成本低(di)。

　　3、設計時充分考慮船舶的特殊性，體積小，重(zhong)量輕，占用省(sheng)、安裝方便、適(shi)應性強，可在狹(xia)小的艙室(shi)內安裝。機架(jia)管(guan)路、管件采用316不鏽鋼及耐蝕材(cai)料(liao)製作。

　　4、集裝箱式海水淡化設備操作簡單(dan)，維(wei)修方便，隻要有電、有海水，啟動後就(jiu)能立即(ji)提供淡水。

　　富二代短视频app官网地址下载集裝箱式海水淡化設備采用超濾膜裝置(zhi)對海水進行預處理，然後把含有鹽類(lei)的海水通過反滲(shen)透裝置加壓，除去海水中所含鹽、菌等有機物質，並進行殺菌處理。同時也能緩(huan)解偏遠地區居(ju)民(min)對飲(yin)用水的需求。